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QRM-MicroBar測(cè)試模體,Micro-CT高分辨率測(cè)試卡 技術(shù)參數(shù):內(nèi)含兩個(gè)3mm×3mm硅質(zhì)芯片,分別水平和垂直安裝,芯片上刻有條狀(溝槽)和點(diǎn)狀圖樣,度規(guī)格為:1μm,2μm,3μm,4μm,5μm,6μm,7μm,8μm,9μm,10μm.
產(chǎn)品分類
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QRM-MicroBar測(cè)試模體詳細(xì)介紹:
Micro-CT高分辨率測(cè)試卡 技術(shù)參數(shù):
內(nèi)含兩個(gè)3mm×3mm硅質(zhì)芯片,分別水平和垂直安裝,芯片上刻有條狀(溝槽)和點(diǎn)狀圖樣,度規(guī)格為:1μm,2μm,3μm,4μm,5μm,6μm,7μm,8μm,9μm,10μm.
作為我們流行的MicroCT-BarPattern-Phantom的進(jìn)一步發(fā)展,我們現(xiàn)在推出BarPattern-NANO!
Micro-CT高分辨率測(cè)試卡易于使用的幻像提供了兩個(gè)硅芯片,它們垂直對(duì)齊并放置在堅(jiān)固的塑料支架上。
兩種3 x 3mm2的芯片都具有數(shù)個(gè)線和點(diǎn)圖案,分別代表線和點(diǎn)的寬度為1至10 µm。
此外,在芯片上還放置了鋸齒狀邊緣(L)和西門子星(放射狀星)。
芯片上的不同結(jié)構(gòu)以這種方式布置在芯片上,從而可以通過一次測(cè)量在圖像/芯片的中心以及外圍區(qū)域中確定空間分辨率。
芯片上的線型和點(diǎn)型:3 x 3mm2
結(jié)構(gòu)的深度在5和15 µm之間變化。
QRM-MicroBar測(cè)試模體技術(shù)指標(biāo)
基礎(chǔ)材料: 固體塑料(切屑放在空氣中的支撐件上-壁厚> 0.3 mm)
直徑幻影: 5.2毫米
高度: 19毫米
硅芯片的措施: 3 x 3 x 0.66毫米
芯片上的結(jié)構(gòu)(分辨率): 分別為1至10 µm。500至50 LP / mm
芯片材質(zhì): 硅
圖案對(duì)比 硅/空氣
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